Alternance:Optimisation de procédés de lithographie par immersion H/F
CEA
Grenoble France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)
il y a 36m

Domaine

Technologies micro et nano

Intitulé de l'offre

Alternance : Optimisation de procédés de lithographie par immersion H / F

Sujet de stage

Optimisation de procédés de lithographie par immersion

Durée du contrat (en mois)

36 mois

Description de l'offre

L’alternance sera réalisée en grande partie dans la salle blanche du CEA-LETI en travaillant sur des substrats de silicium de 300mm.

Au quotidien de nombreux équipements de lithographie et de métrologie de dernière génération seront utilisés.

Le but de l’alternance sera de travailler avec l’équipe d’ingénieurs chercheurs sur l’optimisation de procédés de lithographie par immersion, parfois en lien avec les équipementiers.

Merci d'envoyer vos CV et LM à : karine.jullian cea.fr

Ecole ingénieur

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